課堂氣氛爐中有所不同課堂氣氛對硅碳棒的反應

   漸漸需抑制負壓積極性爐積極性必須的不斷增加，光于在有所不同積極性中的使用硅碳棒的重視項目也更加越多越關鍵性。有時，在燒成中與除理物析出而來的不同的化工材料間的反映也同樣的要重視。    但是，對特有氛圍和腐化性化合物，我公司規劃設計了各樣防范硅碳棒便捷脆化的鍍層。所用恰當的的鍍層會變長硅碳棒的壽命短。不論在那類氛圍上都讓外表面負擔應當小。

    積極性作用應對對策表層水液體和濕氣排出比在空氣干燥大方中的用期減小1/5新真空氣氛爐試進行或 舊鍋里長時間不崗位再選擇時，要先常溫充分地吹干后再降溫。
   U鍍層氧氣硅碳棒溫度表提升到1350℃過后電容快速提升，機械設備制造力度也減退。另一方面據氣態干濕度的不同于年限也區分太大。
意見建議在重力作用氛圍音樂爐工作溫度為1300℃左右的環境下利用。表面能短路電流做到小（5W/cm2）。
  氦氣熱度可超過1400℃時氦氣與氧化硅反響形成氮化硅，使硅碳棒變脆，期拉長。受露點的關系與氯氣的條件一致提案在真空箱環境爐熱度為1300℃之下的環境下安全使用。外觀負載時應小（5W/cm2）。
  N涂覆二氧化氮（H275%）、（N225%）與氧氣、惰性氣體的管理狀況相等。
  建議大家在高壓氣熱場爐濕度為1300℃以上的方式下采用。外壁供電量應當小。
  N涂覆可分解掉化學反應氣休（N2、CO、CO2、H2、CH2搭配物）進行加熱期間中硅碳棒外面懸挑腳手架可分解掉后的碳黑，產生棒體松散。
  通常向負壓系統工作氛圍爐氣力輸送機新鮮空氣，讓剩下的碳丙烷燃燒。在負壓系統工作氛圍爐結構角度，保持穩定硅碳棒間足夠了的連續以預防發生故障。
  N鍍層硫（S、SO2）硅碳棒平均溫度伸到1300℃已經，硅碳棒表層被侵蝕作用、阻值急驟上升。
  將硅碳棒體溫操作在1300℃如下。
  N耐磨涂層其它由被解決物生成的各式的物質，如鉛、銻、堿五金的無機化合物與硅碳棒反響，使其期縮減。
  事前將這么多化學物質從凈化處理物中殺掉，真空環境積極性爐設排氣管口要怎樣變弱其引響。
  H鍍層S鍍層。