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真空高溫爐

概要敘述:真空高溫爐用于真空與氣氛狀態下,陶瓷材料的合成與燒結;玻璃融化,金屬熔融,分體煅燒;無氧或者氣體保護狀態下,有機質的熱解碳化;干燥,濃縮,熱處理。

  • 廠家規定性:生產廠家
  • 自動更新日期:2026-03-15
  • 訪  問  量:1594
類產品講解
品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)40/min
內部尺寸300x200x200mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
儀器種類箱式爐產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,綜合

真空高溫爐通用功能         

1、增溫加時間短:20min內就可由在常溫流程增溫至1000℃ ;

2、節日氣氛區域:渦流系統區域,渦流系統度多達-0.0099Mpa;

3、油待冷卻系統的:要根據貨物因素,室內溫可到1400℃,長周期連續性做工作室內溫100~1300℃;

4、單路課堂氣氛:快速設置氣休往來口及爐膛內氣休排國際貿易;

5、進出口紅外工作溫度試驗儀,可不玩試驗物料管理工作溫度,盡量避免微波通信場打擾;

6、門體很多連鎖加盟機構,打開門停電,守護實際操作人群,微波通信泄密防范遵循執行標準;

7、主要采用PLC主動把握,濕度公率均智能化控制,觸控屏運營;

8、紅外光工作功率可變,重復可變。

真空高溫爐重要技術參數
一、型號:AFD1100-50;
二、設備尺寸
a、工作區尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm);
三、機器結構
a、單門落地式,控制部分位于機臺下方;
b、爐門為從左至右打開。
四、主要技術參數
a、溫度范圍:RT~1300℃;
b、溫度波動度:±1.0℃;
c、溫度均勻度:≤±5.0℃;
d、溫度:1400 ℃;
e、額定溫度:1300℃;
f、加熱元件:硅碳棒
g、熱電偶型號:B型
h、四周表面溫度:≤ 溫升50℃;
i、升溫速率:≤ 20 ℃/ Min;
j、升溫速率:10  ℃/ Min;
K、降溫速率:≤ 15 ℃/ Min(爐膛溫度≥1000℃);
l、降溫速率:≤ 10 ℃/ Min(爐膛溫度≤1000℃);
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對流和熱輻射加熱;
n、爐內真空度20Kpa,爐內正壓:max0.1Mpa;
o、爐膛內可通氫氣、氮氣,氧氣(少量)、氬氣等氣體。
五、內外材質
a、爐膛材料:1560型日本進口氧化鋁多晶體纖維(阿爾塞);
b、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理;
六、密封裝置
a、爐門與爐體采用硅橡膠密封,配有循環水冷卻裝置;
b、爐體采用雙層爐殼,外城爐殼采用硅橡膠密封;
七、溫控系統;
a、溫度控制為PID微電腦自動演算,PV/SV同時顯示按鍵設定;
b、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅;
c、控制方式:40段程序控溫;
八、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱;
b、加熱方式為熱輻射及自然對流;
九、安全保護系統
a、保險絲;
b、過電流保護裝置、過溫保護裝置;
十、配件清單
a、流量計:1只;
b、高溫手套:一副;
c、氧化鋁墊磚:1 塊;
十、電源: 三相380V 

    工作效率:12KW

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